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塑料膜供应商告诉你薄膜二氧化铈应用参数

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使用高密度的钨舟皿(较早使用)蒸发,在200℃的基板上蒸着二氧化铈,得到一个约为2.2的折射率,在大约3000nm有一吸收带其折射率随基板温度的变化而发生显著变化,在300℃基板500nm区域折射率为2.45,在波长短过400nm时有吸收,传统方法蒸发缺乏紧密性,用氧离子助镀可取得n=2.35(500nm)的低吸收性薄膜,一般为颗粒状,还可用一增透膜和滤光片等。

透光范围(nm) 折射率(N) 500nm 蒸发温度(℃) 蒸发源 应用 杂气排放量

400--16000 2.35 约2000 电子枪 防反膜, 多